气体在半导体外延中起到的作用

外延生长实际上主要是一个化学反应过程。硅外延生长使用的主要气源是氢气和氯硅烷类，如四氯化硅（SiCl4）、三氯甲硅烷（SiHCl3）和二氯甲硅烷（SiH2Cl2）。另外，为了降低生长温度，也经常使用硅烷作为气源。选择使用哪种气源主要由生长条件和外延层的规格来决定的，其中生长温度是选择气源种类时要考虑的重要因素。硅外延层生长速度和生长温度的关系。

高压二氧化碳灭火设备由瓶组架、灭火剂瓶组、检漏装置、容器阀、金属软管、单向阀(灭火剂管路)、集流管、安全泄放装置、选择阀、信号反馈装置、灭火剂输送管道、喷嘴、驱动气体瓶组、电磁型驱动装置、驱动管道、单向阀(驱动气体管路)等组成，是一种智能型自动灭火设备。根据不同应用场所使用要求，可组成单元独立系统、组合分配系统，采用全淹没灭火方式，实现对单防护区和多防护区的灭火保护，技术先进、灭火效率高、维护方便。设备具有自动、手动和机械应急操作三种启动方式。

适用于电子计算机房、数据储存间、图书库房、银行金库、贵重物品库、纸张库、棉花库、食品库、中草药库、皮毛库及电缆隧道等重点场所的消防保护，也可以用于生产作业火灾危险场所，如浸渍槽、熔化槽、轧制机、纺织机、发电机、印刷机、油浸变压器、油开关、大型发电机、液压设备、烘干设备、干洗设备、除尘设备、炊事灶具、喷漆生产线、电气老化间、水泥生产流程中的煤粉仓，以及船舶机舱、货舱等。