气体在半导体外延中起到的作用

外延生长实际上主要是一个化学反应过程。硅外延生长使用的主要气源是氢气和氯硅烷类，如四氯化硅（SiCl4）、三氯甲硅烷（SiHCl3）和二氯甲硅烷（SiH2Cl2）。另外，为了降低生长温度，也经常使用硅烷作为气源。选择使用哪种气源主要由生长条件和外延层的规格来决定的，其中生长温度是选择气源种类时要考虑的重要因素。硅外延层生长速度和生长温度的关系。

氖是一种惰性气体，在一般情况下不与其他物质发生反应。氖在放电时发出橘红色辉光，大量应用于城市霓虹灯。另外日常生活中使用的试电笔中也充入氖气，这是利用了氖放电发光以及电阻很大的特性。使用试电笔时，笔尖接触被测电路，手触摸电笔尾部，这样才能形成回路。电流从电笔一端流入，经过氖气后，电流强度降至人体安全范围，再到达尾部，经人体导入大地。