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气体在半导体外延中起到的作用


外延生长实际上主要是一个化学反应过程。硅外延生长使用的主要气源是氢气和氯硅烷类,如四氯化硅(SiCl4)、三氯甲硅烷(SiHCl3)和二氯甲硅烷(SiH2Cl2)。另外,为了降低生长温度,也经常使用硅烷作为气源。选择使用哪种气源主要由生长条件和外延层的规格来决定的,其中生长温度是选择气源种类时要考虑的最重要因素。硅外延层生长速度和生长温度的关系。

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99.9995~99.99997

氙气是惰性气体中原子序数较大的元素,稀有气体,无色、无臭、无味,密度5.887千克/立方米,熔点-111.9℃,沸点-107.1±3℃,20℃时每升水中可溶解110.9毫升,用于闪光管、闪光灯充气,以及作深度麻醉剂。氙气是一种无色无味的气体,可以在通电时发出特强的白光,例如:人造小太阳和广场照明。

包装物尺寸:8L/12L/47L/470L/(另接受定制)
CAS:7440-63-3
阀门型号:CGA580

DISS716
HS:2804290000
    广泛用于电子、电光源工业。用氙气充填的灯泡与相同功率的充氩灯泡相比,具有发光率高、体积小、寿命长、省电等优点。由于它的透雾能力特别强常用作有雾导航灯,广泛用于机场、车站、码头。氙灯凹面聚光后可生成2500℃高温可用于焊接或切割难熔金属如钛、钼等。在医学方面,氙是一种没有副作用的深度麻醉剂X光摄影的造影剂。
企业名称含义:贝斯特即英文“best”的音译,含义为:要做就做最好。
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