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气体在半导体外延中起到的作用


外延生长实际上主要是一个化学反应过程。硅外延生长使用的主要气源是氢气和氯硅烷类,如四氯化硅(SiCl4)、三氯甲硅烷(SiHCl3)和二氯甲硅烷(SiH2Cl2)。另外,为了降低生长温度,也经常使用硅烷作为气源。选择使用哪种气源主要由生长条件和外延层的规格来决定的,其中生长温度是选择气源种类时要考虑的最重要因素。硅外延层生长速度和生长温度的关系。

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IG541灭火剂是一种由N2、Ar、CO2三种气体组合成的混合气体,混合体积比为(N2:52%,Ar :40%,CO2:8%),是一种纯天然气体灭火系统,也是目前最环保的气体灭火设备。
IG541气体灭火系统由瓶组架、灭火剂储瓶、容器阀、高压软管、单向阀、集流管、安全泄放装置、选择阀、信号反馈装置、灭火剂输送管道、减压装置、喷嘴、驱动气体瓶组、电磁型驱动装置、驱动管道等组成。根据不同应用场所使用要求,可组成单元独立系统、组合分配系统,采用全淹没灭火方式,实现对单防护区和多防护区的灭火保护,技术先进、灭火效率高、维护方便。系统具有自动、手动和机械应急操作三种启动方式
企业名称含义:贝斯特即英文“best”的音译,含义为:要做就做最好。
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